自主研制制作的大型直写光刻设备顺畅交给，该设备大多数都用在光子芯片、光通信和光芯片等光电子范畴相关资料的光刻制作。其自主研制的大型直写光刻设备具有以下功用优势：3D矢量规划数据向微结构描摹转化先进算法与软件处理；处理与传输/快速光刻；大面积衬底实时三维导航自聚焦功用；三维微结构描摹曝光附近效应补偿；支撑大面积光刻厚胶板制备。
表明，将继续拓宽微纳光学技能/产品在国家收据和证件防伪资料、电子纸和反射式液晶前光资料、AR/MR和AR-HUD衍射光学资料、芯片光刻机定位光栅尺资料，以及光刻设备在光伏铜电镀图形化设备、高端掩模、光子芯片、光芯片等具有更高的附加价值和商场空间范畴的商业化使用和工业化出资，极力为客户供给先进的光学资料、光刻设备和解决方案，完成用户对微纳光刻制作的更高需求，助力其打破技能瓶颈，为工业协作发明新机遇。
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